Изобразить и описать последовательность формирования изолированных областей в структуре с диэлектрической изоляцией. Изобразить схему технологического процесса изготовления ИМС эпитаксиально-планарной структуры без скрытого слоя. Каким образом осуществляется изоляция в изопланарной структуре. Используется ли эпитаксия при создании КМДП-структуры. Указать недостатки методов...
Комментарии