М.: Энергия, 1974. — 284 с.: ил.
В книге рассматриваются процессы, лежащие в основе планарной технологии изготовления кремниевых приборов — диодов, транзисторов и интегральных схем.
Подробно излагаются вопросы, связанные с важнейшими операциями планарного технологического процесса: подготовкой кремниевых пластин, созданием маскирующих и пассивирующих слоев на их поверхности, диффузией, фотолитографией и эпитаксией. Рассмотрены операции сборки планарных приборов и методы контроля технологического процесса.
Книга рассчитана на инженеров, молодых специалистов и студентов старших курсов, специализирующихся в области полупроводниковой технологии.