Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Угай Я.А. (ред.) Практикум по химии и технологии полупроводников

  • Файл формата djvu
  • размером 7,13 МБ
Угай Я.А. (ред.) Практикум по химии и технологии полупроводников
Анохин В.З., Гончаров Е.В., Кострюков Е.П., Пшестанчик В.Р. Маршакова Т.А. — Учебное пособие для студентов ВУЗов. — М.: Высшая школа, 1978. — 191 с.: ил.
В книге дано описание лабораторных работ по химии и технологии полупроводников.
Пособие предназначено для изучения основных методов физико-химических исследования конденсированных систем (ДТА, тензометрические методы, построение P-T-x диаграмм, методы микроструктурного анализа и микротвердости), различных методов синтеза, кристаллизационной очистки и выращивания монокристаллов полупроводниковых соединений.
Книга знакомит с основными технологическими операциями в производстве полупроводниковых приборов (окисление, диффузия, эпитаксия, травление).
В каждой лабораторной работе дано теоретическое введение, приведены схемы приборов и оборудования, методы количественной обработки экспериментальных результатов.
Предисловие.
Основные методы физико-химического анализа.
Лабораторные работы.
Дифференциальный термический анализ.
Изучение зависимости давления диссоциации соединений с летучим компонентом от температуры.
Построение Р-Т-х-диаграмм состояния.
Изучение микроструктуры и микротвердости.
Методы синтеза и очистки полупроводниковых соединений Выращивание монокристаллов.
Получение соединений с малым давлением диссоциации (однотемпературный синтез).
Получение соединений с высоким давлением диссоциации (двухтемпературный синтез).
Получение соединений с высоким давлением диссоциации из индифферентного растворителя.
Получение полупроводниковых материалов методом газотранспортных реакций.
Получение монокристаллов из расплава (направленная кристаллизация).
Получение монокристаллов из раствора-расплава (направленная кристаллизация).
Зонная плавка.
Технологические приемы обработки полупроводниковых материалов.
Химическое травление.
Окисление кремния.
Эпитаксиальное наращивание.
Диффузия примесей в кремнии.
  • Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
  • Регистрация