Учебное пособие. — Иваново: Ивановский государственный химико-технологический университет, 2016. — 255 с.
Учебное пособие содержит описание базовых процессов планарной технологии изготовления интегральных микросхем в микро и наноэлектронике. Рассматриваются процессы очистки материалов, получение эпитаксиальных пленок на поверхности подложек, формирование защитных и пассивирующих покрытий, а также фотолитография, диффузия и изготовление печатных плат. Каждый раздел пособия содержит перечень вопросов для самоподготовки. С целью получения практических навыков и закрепления теоретического материала в пособие включены шесть базовых лабораторных работ по основным технологическим процессам.
Каждое описание лабораторной работы содержит подробное теоретическое введение, описание материалов и лабораторного оборудования, порядок выполнения работы и лабораторное задание.
Предназначено для студентов, обучающихся по направлениям подготовки «Электроника и наноэлектроника» и «Химическая технология» при изучении дисциплины «Процессы микро- и нанотехнологий».
Введение.
Очистка полупроводниковых подложек.
Эпитаксия.
Процессы формирования защитных и пассивирующих покрытий.
Процессы создания топологии микрорельефа в технологии микро- и наноэлектроники.
Высокотемпературная диффузия примеси в объем полупроводниковой подложки.
Технологические процессы изготовления односторонних и двухсторонних печатных плат.
Технологические процессы изготовления многослойных печатных плат.
Приложения.Определение толщины оксидной пленки методом цветовых оттенков Ньютона.
Основные материалы и операции, используемые при изготовлении печатных плат.
Технологические маршруты изготовления печатных плат.
Список рекомендуемой литературы.