Монография в 3 томах. — Минск: ФУАинформ, 2001. — 244 с.
Второй том включает четыре главы, в которых рассматриваются плазмохимические методы осаждения и ионно-плазменного нанесения тонких пленок, плазменные методы удаления тонких пленок с поверхности твердых тел, применение СВЧ плазменных процессов и устройств в технологии микроэлектроники.