Автореферат диссертации на соискание ученой степени кандидата технических наук. Работа выполнена в Институте сильноточной электроники СО РАН.Томск, 2007, стр.11
Специальность 05 27 02 - Вакуумная и плазменная электроника
Цель работы:Повышение эффективности технологических устройств со скрещенными электрическим и магнитным полями для промышленного нанесения перспективных тонкопленочных покрытий на подложки большой площади и исследование технологий с их использованием
Для достижения этой цели в работе поставлены следующие задачи:
Исследовать протяженную магнетронную распылительную систему с цилиндрическим вращающимся катодом с точки зрения однородности нанесения покрытий, коэффициента использования материала катода, параметров создаваемой плазмы и стабильности работы в режимах с реактивными газами. На основе анализа полученных данных предложить конструктивные изменения, позволяющие улучшить работу магнетрона по указанным показателям.
Сравнить характеристики твердых аморфных углеродных пленок, наносимых методом импульсного сбалансированного и несбалансированного магнетронного распыления с использованием усовершенствованной конструкции цилиндрического магнетрона с вращающимся катодом.
Разработать конструкцию ионного источника с анодным слоем и исследовать процесс нанесения с его помощью аморфных углеводородных пленок на подложки большой площади Найти оптимальные для получения покрытий режимы работы ионного источника.
Исследовать влияние модификации поверхности подложки и параметров ионно-плазменных потоков на механизм роста и свойства ультратонких пленок серебра, наносимых магнетронным распылением.
На основе разработанных конструкций устройств со скрещенными электрическим и магнитным полями, а также исследованных технологий нанесения твердых углеродных и углеводородных покрытий создать вакуумную технологическую установку для нанесения пленок на подложки большой площади.