Боков Ю.С. Фото-, электроно- и рентгенорезисты

М.: Радио и связь, 1982. — 136 с. — (Библиотека технолога радиоэлектронной аппаратуры).Посвящена вопросам получения фото-, электроно- и рентгенорезистов и применения их в технологии микроэлектронных изделий. Приведена классификация регистрирующих защитных материалов, изложены основные химические и физико-химические принципы их создания. Рассмотрены свойства различных типов фото-, электроно- и рентгенорезистов и особенности их применения, а также перспективы дальнейшего развития техники защитных материалов. Для инженеров-технологов, специализирующихся в области химической технологии микроэлектроники.Предисловие.
Терминология. Классификация.
Полимеры и излучения.
Спектральный диапазон излучений и энергия химических связей.
Свет и основные законы фотохимии.
Основные фотохимические процессы.
Излучения высоких энергий и радиационно-химические процессы в полимерах.
Фоторезисты.
Методы получения светочувствительной основы фоторезистов. Светочувствительные полимеры и композиции.
Светочувствительность фоторезистов.
Основные физико-химические аспекты получения фоторезистов.
Общие вопросы применения фоторезистов.
Негативные фоторезисты.
Позитивные фоторезисты.
Сухие пленочные фоторезисты.
Электронорезисты.
Энергетические аспекты оценки электронолитографии и электронорезистов.
Негативные электронорезисты.
Позитивные электронорезисты.
Рентгенорезисты.
Рентгенолитография.
Рентгеновское излучение и рентгенорезисты.
Фото-, электроно- и рентгенорезисты в процессах ионно-плазменного травления.