Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Шепелев С.Н., Васильев В.Ю., Попов В.П. Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления. Часть 1. Оборудование для осаждения слоев

  • Файл формата djvu
  • размером 1,51 МБ
  • Добавлен пользователем
  • Описание отредактировано
Шепелев С.Н., Васильев В.Ю., Попов В.П. Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления. Часть 1. Оборудование для осаждения слоев
Москва: ЦНИИ Электроника, 1986. — 54 с. — (Обзоры по электронной технике. Серия 2. Полупроводниковые приборы. Выпуск 7 (1242)).
Рассматриваются теоретические основы и современное состояние метода плазмохимического осаждения в реакторах пониженного давления, анализируются основные типы установок и конструкции промышленного оборудования для получения тонких диэлектрических и проводящих слоев.
Составлен по материалам отечественной и зарубежной печати за 1976—1985 годы.
Предназначен для специалистов, занимающихся разработкой оборудования и процессов получения тонких слоев.
Введение.
Основы метода плазмохимического осаждения слоев.
Основные параметры плазмы.
Типы реакторов.
Методы диагностики плазмы.
Промышленные реакторы.
Планарные реакторы с «холодными» стенками.
Трубчатые реакторы с «горячими» стенками.
Сравнение характеристик различных установок.
Экспериментальные реакторы для плазмохимического осаждения слоев.
Влияние плазмы на химическую реакцию.
Проводящие материалы.
Металлы.
Силициды металлов.
Выводы.
Литература.
  • Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
  • Регистрация

Упоминается в тегах

Подробнее

Серии от ЦНИИ 'Электроника'

ЦНИИ "Электроника" - информационно-аналитический центр отечественной радиоэлектронной промышленности. Серия 1. Электроника СВЧ: [1975] Выпуск 05 (0302). Методы планируемого эксперимента и их применение djvu; [1986] Выпуск 11 (1200). Перспективные линии передачи КВЧ диапазона djvu; [1989] Выпуск 07 (1451). Желобковый волновод. Часть 1. Общие сведения и методы теоретического анализа...
  • добавлен
  • отредактирован

Смотри также

Подробнее

Баранов Ю.Л., Круглов И.И. Совершенствование чистых производственных помещений для изготовления полупроводниковых приборов

  • djvu
Москва: ЦНИИ Электроника, 1989. — 60 с. — (Обзоры по электронной технике. Серия 2. Полупроводниковые приборы. Выпуск 1 (1424)). Проанализированы состояние, тенденции и перспективы чистых производственных помещений, используемых для изготовления полупроводниковых приборов, с учетом постоянно повышающихся требований к надежности и выходу годных. Основной упор делается на анализ...
  • 1,27 МБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Васильев В.Ю., Сухов М.С. Аппаратура и методика осаждения слоев при пониженном давлении. Часть 2. Методика осаждения слоев при пониженном давлении

  • djvu
Москва: ЦНИИ Электроника, 1985. — 52 с. — (Обзоры по электронной технике. Серия 7. Технология, организация производства и оборудование. Выпуск 4 (1088)). Дана краткая характеристика используемых реагентов и методов экспресс-анализа свойств слоев, подробно проанализированы причины неравномерного роста слоев при объемной загрузке пластин в реакторах и способы оптимизации процессов...
  • 1,61 МБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Голиков Ю.А., Смирнова Т.П., Соловьев Л.П. Плазмохимические методы синтеза диэлектрических слоев в полупроводниковой технологии

  • djvu
Москва: ЦНИИ Электроника, 1986. — 29 с. — (Обзоры по электронной технике. Серия 3. Микроэлектроника. Выпуск 5 (1233)). Рассматриваются вопросы плазмохимического синтеза диэлектриков, конструктивное оформление плазмохимических процессов, а также плазмохимическое осаждение диэлектрических слоев. Для специалистов, инженеров, научных работников, преподавателей, аспирантов и студентов....
  • 770,48 КБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Карпис Л.Е. Системы воздухоснабжения чистых помещений

  • djvu
Москва: ЦНИИ Электроника, 1988. — 44 с. — (Обзоры по электронной технике. Серия 7. Технология, организация производства и оборудование. Выпуск 16 (1418)). Сделана попытка обобщения отечественного и зарубежного опыта проектирования и эксплуатации систем вентиляции и кондиционирования воздуха чистых комнат и прогнозирования их развития на ближайший период. Подробно рассмотрены...
  • 1,30 МБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Технология полупроводниковых приборов и изделий микроэлектроники. Книга 5. Никифорова-Денисова С.Н., Любушкин Е.Н. Термические процессы

  • djvu
В 10-и книгах. — Москва: Высшая школа, 1989. — 96 с.: ил. — ISBN 5-06-000307-8. В книге описаны технологические процессы формирования диэлектрических и поликристаллических кремниевых пленок на поверхности полупроводниковых пластин, а также эпитаксиального наращивания. Приведены режимы обработки, характеристики используемого оборудования, последовательность и особенности...
  • 907,30 КБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Подробнее

Шепелев С.Н., Васильев В.Ю., Попов В.П. Плазмохимическое осаждение тонких слоев в реакторах пониженного давления. Часть 2. Процессы осаждения и свойства тонких пленок

  • djvu
Москва: ЦНИИ Электроника, 1988. — 63 с. — (Обзоры по электронной технике. Серия 2. Полупроводниковые приборы. Выпуск 2 (1332)). Рассматривается технология плазмохимического осаждения слоев нитрида кремния, поликристаллического кремния, двуокиси кремния силикатных стекол, их важнейшие свойства и области применения в микроэлектронике. Анализируется взаимосвязь свойств слоев с...
  • 1,64 МБ
  • добавлен
  • описание отредактировано
Наверх