Калинушкін Є.П. та інш. Тонкоплівкові матеріали та технології їх одержання

Навч. посібник / Є.П. Калинушкін, Н.М. Федоркова, Ю.П. Синиціна, О.А. Балакін, М.М. Горуля, П.Т. Савченко, К.Д. Підгорна, В.О. Мілаков, Р.Ю. Чигиринський. — Дніпропетровськ : НМетАУ, 2009. — 175 с.Наведені теоретичні основи існуючих та новітніх прогресивних технологій для отримання тонких та наноплівок різного складу та призначення, у тому числі й для компактних джерел електричного струму. Описуються конструктивні особливості устаткування для вакуумних систем та пристроїв для напилювання тонких плівок.
Представлені одно- та багатокомпонентні, а також багатошарові тонкоплівкові катодні та анодні матеріали для створення композитних електродів, показана їх структура та вимоги щодо будови та властивостей електродного матеріалу.
Призначений для студентів напряму 0901 – інженерне матеріалознавство.Вступ.
Історія розвитку тонкоплівкових процесів.
Класифікація тонкоплівкових матеріалів.
Класифікація методів одержання тонкоплівкових матеріалів.
Вакуум у технологіях напилювання тонкихплівок.
Вплив вакууму на процеси нанесення плівок.
Вакуумна система та устаткування для одержання вакууму.
Конструкція та режими роботи вакуумної системи.
Способи виміру тиску у вакуумній системі.
Основні способи одержання тонких плівок у вакуумі. Вакуумні технології осадження матеріалів.
Класифікація вакуумних способів отримання тонких плівок.
Нанесення плівок методом вакуум-термічного випару.
Переваги Vds процесу в порівнянні з існуючими тонкоплівковими технологіями.
Електронно-променеве напилювання.
Іонно-плазмове напилювання.
Магнетронні пристрої для напилювання.
Лазерний метод напилювання тонких плівок.
Іонне осадження покриттів.
Іонно-дифузійне насичення.
Конструкції випарників.
Вибір умов і параметрів напилювання залежно від технології та виду матеріалу.
Вибір температурно–часових режимів.
Вплив температури стінок робочої камери на швидкість осадження матеріалу.
Вплив температури підкладки.
Вплив тиску пари в робочому об’ємі.
Структуроутворення в тонких плівках.
Механізми зародження конденсованих фаз на твердій підкладці.
Закономірності утворення епітаксіальних тонких плівок.
Вплив щільності пари на формування структури тонких плівок.
Вплив температурного градієнта в напрямку від випарника до підкладки на формування структури тонких плівок.
Вплив енергії дисоціації матеріалів на характеристику їхнього осадження.
Вплив температури підкладки на охолодження матеріалу.
Структуроутворення в металокерамічних тонких плівках, отриманих за допомогою hds технології.
Використання діаграм стану для розробки режимів одержання тонкоплівкових матеріалів.
Однокомпонентні системи.
Багатокомпонентні системи.
Використання діаграм стану при напилюванні холодним методом.
Контроль параметрів тонких плівок і технологічних режимів їхнього нанесення.
Приклади одержання тонкоплівкових матеріалів вакуумно-термічним методом.
Отримання тонких плівок із оксиду молібдену MoO3 задопомогою Vds установки.
Одержання плівок графіту методом Vds.
Структура тонких плівок із шпінелі складу LiMn2O4 та багатошарових двофазних композитів вуглець-шпінель.
Додаток А.
Додаток Б.
Рекомендована література.