Силаев И.В., Радченко Т.И., Гергиева Б.Э., Магкоев Т.Т. Физико-химические основы и технология получения тонких пленок резистивным напылением

Владикавказ: СОГУ, 2016. — 136 с. — ISBN: 978-5-8336-0892-0.Данное пособие предназначено для студентов, изучающих вакуумную технику и технологию полупроводниковых приборов.
Цель, которую поставили перед собой авторы, состоит в том, чтобы в доступной форме обобщить материал, который накоплен в различных литературных источниках за большой временной период. Авторы сделали попытку взять лучшее из учебников советских времен и из современных изданий и, опираясь на свой практический опыт, изложить материал таким образом, чтобы заинтересовать студентов данной тематикой. Учебно-методическое пособие ставит перед собой цель дать ответы на многие вопросы, которые неизбежно возникают у человека, только начавшего работать с вакуумной техникой. Из множества различных способов вакуумного напыления было решено остановиться на резистивном способе, как самом доступном при проведении экспериментов и лабораторных практикумов. Изложенные теоретические основы вакуумной техники, методы контроля вакуума, способы очистки подложек и многое другое одинаково применимы и к другим способам напыления функциональных покрытий в вакууме.Предисловие.
Введение.
Физические основы нанесения тонких пленок в вакууме с помощью резистивного испарения.
Общие сведения о тонких пленках.
Теоретические основы вакуумной техники.
Законы для идеальных газов.
Сопротивление и проводимость сложного вакуумного трубопровода.
Вакуумные насосы.
Взаимодействие газов с твердыми телами.
Давление паров и диссоциация окислов металлов.
Приборы для измерения полного давления разреженного газа (вакуумметры). Классификация вакуумметров.
Очистка поверхности подложек.
Техника резистивного испарения.
Заключение.
Словарь терминов вакуумной техники.
Литература.