Зарегистрироваться
Восстановить пароль
FAQ по входу

Сугано Т., Икома Т., Такэиси Ё. Введение в микроэлектронику

  • Файл формата djvu
  • размером 7,84 МБ
  • Добавлен пользователем , дата добавления неизвестна
  • Описание отредактировано
Сугано Т., Икома Т., Такэиси Ё. Введение в микроэлектронику
Пер. с яп. В.В. Комарова, М.Е. Панюкова. Под ред. В.Г. Ржанова. — Москва: Мир, 1988. — 320 с.
Книга является переводом первого тома 11-томной серии по микроэлектронике, написанной крупными японскими специалистами. В эту серию входят книги, дающие исчерпывающий обзор современного состояния методов конструирования, технологии производства и применений интегральных схем. Излагаются методы проектирования и изготовления интегральных схем, а также их базовые структуры. Большое внимание уделено новой технологии изготовления схем, обеспечивающей получение практически бездефектных приборов.
Для специалистов в области микроэлектроники и вычислительной техники, а также студентов соответствующих специальностей.
Предисловие редактора перевода.
Предисловие.
Интегральные схемы — основа микроэлектроники.
Развитие микроэлектроники.
Состояние технологии изготовления БИС.
Микроэлектроника будущего.
Электрические свойства полупроводников.
Структура кристаллической решетки и энергетических зон.
Механизмы протекания электрического тока.
Генерация и рекомбинация носителей.
Полупроводники в сильных электрических полях.
Основные уравнения для анализа работы полупроводниковых приборов.
Полупроводниковые приборы.
Контакт «металл — полупроводник» и p-n-переход.
Биполярные транзисторы.
Полевые МОП-транзисторы.
Полевые транзисторы с затвором Шоттки.
Технология изготовления полупроводниковых приборов и интегральных схем.
Основные технологические этапы изготовления ИС.
Монокристаллы кремния.
Дефекты монокристаллов и геттерирование примесей.
Эпитаксия.
Окисел кремния и свойства окисных пленок.
Изготовление тонких пленок методом химического осаждения из газовой фазы.
Легирование примесями: диффузия и ионная имплантация.
Металлическая электрическая разводка.
Литография.
Травление рисунка.
Моделирование технологических процессов.
Основные структуры полупроводниковых ИС.
Структуры биполярных ИС.
Смешанные монолитные ИС на биполярных и МОП-структурах.
Структуры МОП ИС.
Структуры МОП СБИС.
Применение МОП СБИС.
ИС на полупроводниках группы AIIIBV и на элементах Джозефсона.
Полупроводники группы AIIIBV и кремний как материалы для ИС.
Структура энергетических зон полупроводников группы AIIIBV.
Приборы на полупроводниках группы AIIIBV.
ИС на полупроводниках группы AIIIBV.
Физика перехода Джозефсона.
Схемы на переходах Джозефсона.
ИС на элементах Джозефсона.
Предметный указатель.
  • Чтобы скачать этот файл зарегистрируйтесь и/или войдите на сайт используя форму сверху.
  • Регистрация